High Concentration Ozone Destroyer

ภาพรวมผลิตภัณฑ์

High Concentration Ozone Destroyer
เครื่องทำลายโอโซนความเข้มข้นสูงได้รับการออกแบบมาเพื่อกำจัดโอโซนที่เหลือจากกระบวนการต่างๆ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดยเฉพาะในกระบวนการที่ใช้โอโซนความเข้มข้นสูง เช่น CVD, ALD, MOCVD, Ashers และ Wet tools

ทิศทางการใช้งาน

• CVD (Chemical Vapor Deposition): กำจัดโอโซนที่เหลือจากกระบวนการเคลือบ
• ALD (Atomic Layer Deposition): กำจัดโอโซนที่ใช้ในกระบวนการเคลือบชั้นบาง
• MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition): กำจัดโอโซนที่ใช้ในกระบวนการเคลือบสารกึ่งตัวนำ
• Ashers: กำจัดโอโซนที่ใช้ในกระบวนการขจัดโฟโตเรซิสต์
• Wet tools: กำจัดโอโซนที่ใช้ในกระบวนการทำความสะอาดและกัดเซาะ